최근의 세정은 단순 유무기 세정보다는 파티클세정이 더욱 중요한 분야가 많습니다.
먼저 반도체 분야가 그렇고, 광학광련 필름,렌즈 등 이물을 제거 해야하는 분야는 점점더 늘고 있습니다.
수계세정으로는 한계가 있습니다.
불소계세정은 이분야에 아주 적합한 세정방법 입니다.
1. 불연성 이어서 끓여서 사용하는 증기세정법을 채택합니다.
2. 증기는 액면에 떠있는 파티클 재오염시 부품에 응축하여 아래로 끌어내려 완전제거 합니다.
3. 표면에너지가 낮아 침투력이 좋습니다.
4. 건조공정 없이 즉시 마릅니다.
5. 물자국이 남지 않습니다.
6. 인체에 해롭지 않습니다.
7. 액을 리싸이클하여 사용하므로 비용이 적게 듭니다.
불소세정(HFE Cleaning)으로 적당한 분야는 CCD,CMOS 이미지센서, IR Filter,반도체웨이퍼,덴탈재료및 각종의료기기 부품, 자동차의 압력센서 등이 있습니다
자세한 세정방법과 관심이 있으신 분은 저의 메일로 문의를 주시기 바랍니다.
아는데 까지 성의껏 답변해 드리겠습니다^^
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